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『鸿之微讲堂系列』之

下一代集成电路工艺设计辅助软件TCAD

培训及交流会

日期：2016年11月29日，周二

时间：18：00-20：00

地点：上海浦东新区碧波路635号传奇广场3楼(近张江地铁站)IC咖啡

规模：50人

议程：

主题课程：下一代集成电路工艺设计辅助软件TCAD介绍

随着集成电路产业的迅猛发展，传统半导体器件的尺寸迅速减少，以及新兴集成电路和材料的出现，这些传统的TCAD方法和软件已经面临着巨大的挑战，相应的辅助计算模拟和工艺设计软件发展遇到瓶颈，将完全无法承担10nm左右的电子器件的设计问题。其主要困难来自于：（1）当器件到达纳米尺度甚至原子尺度时，量子效应将起重要作用，而传统的模型和方法没有完备地包含量子效应；（2）随着器件尺寸的缩小，微观的材料结构，制备，和工艺的差异，将会对器件的性质带来极其显著影响，而传统的模型和方法很难处理材料和器件细节对功能的影响；（3）经验和经典的TCAD设计方法和软件依赖于大量的实验参数，然而当器件达到纳米尺度后，通过实验手段获得可靠的参数变得越来越困难和费时费力。（4）诸多新型电子器件和电子材料的不断问世，完全超出了传统TCAD方法的应用范围。这些新型电子器件已经和即将在MRAM，太阳能，电动汽车，生物技术等领域有巨大应用前景。在传统TCAD模拟方法面临诸多困难的情况下，基于原子水平的TCAD应运而生。

主讲嘉宾：曹荣根

Ø 复旦大学材料科学系材料物理与化学专业，博士。

Ø 长期从事集成电路器件和工艺研究，发表 SCI 文章 15 篇，拥有专利5项。

Ø 2003年与日本滨松光子株式会社合作，共同组建当时国内最先进的集成电路失效定位分析实验室，该实验室先后为国内300家半导体企业开展过相关服务。

Ø 2014年发起成立鸿之微科技（上海）股份有限公司并出任董事长。

活动报名：

限前50位报名者免费参加，现场提供精美茶歇。